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一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法 发明申请

2023-06-18 1940 860K 0

专利信息

申请日期 2025-07-20 申请号 CN201710283968.3
公开(公告)号 CN107043263A 公开(公告)日 2017-08-15
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 天津大学
简介 本发明涉及一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法;以α‑氮化硅和烧结助剂总量为基准,α‑氮化硅的质量含量为75‑97%,加入烧结助剂质量含量为3‑25%,将混合粉体球磨混合、干燥;将混合粉料经过造粒、成型,制备出预备烧结体;将预备烧结体排胶后,在1500‑1600℃烧结,得到氮化硅陶瓷材料。本发明制备的低温烧结氮化硅陶瓷,克服了传统稀土氧化物助烧剂烧结温度高的缺点,在低温烧结下即可获得相对密度98%,弯曲强度671MPa,α‑氮化硅完全转化成β‑氮化硅的氮化硅陶瓷材料。


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