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本发明涉及了一种光通信和磁储存镀膜用稀土‑过渡金属旋转靶材及其制备方法,采用真空等离子喷涂的方法进行制备,得到的稀土‑过渡金属旋转靶材的尺寸不受限制,厚度可达到3~13mm,是大尺寸一体化靶材,克服了绑定拼接靶材容易引起的电弧放电和靶材黑化问题,另外靶材纯度高,克服了传统等离子喷涂工艺制备的靶材纯度低、致密度差、氧、氮含量高等问题。
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