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用於制程环上之基於稀土金属氧化物的薄膜涂层之离子辅助沉积

2026-04-04 05:103080下载
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文件大小：2652K
一種製造物品的方法包括為蝕刻反應器提供一環。隨後進行離子輔助沉積(IAD)以在該環的至少一個表面上沉積保護層，其中該保護層為抗電漿稀土金屬氧化物膜，該膜具有小於300微米的厚度及小於6微英吋的平均表面粗糙度。


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