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本发明公开了一种3D芯片堆叠的含Yb、纳米Cu的互连材料,属于芯片互连材料领域。该互连材料的稀土元素Yb含量为0.01~0.5%,纳米Cu颗粒为1~5%,其余为In。首先制备In-Yb中间合金粉末,其次混合In-Yb粉末、In粉末、混合松香树脂、触变剂、稳定剂、活性辅助剂和活性剂并充分搅拌,最后添加纳米Cu颗粒,充分搅拌制备膏状含Yb和纳米Cu颗粒的互连材料,采用精密丝网印刷和回流焊工艺在芯片表面制备凸点,在一定压力(1MPa~10MPa)和温度(170℃~260℃)条件下实现三维空间的芯片垂直互连,形成高强度互连焊点。本互连材料具有高可靠性,可用于三维封装芯片垂直堆叠。