文件类型:PDF文档
文件大小:281K
本发明涉及电子元器件引线技术领域,尤其涉及到电子元器件引线用镀锡铜线镀锡电解液,包括以下含量的原料:甲基磺酸70—200mL/L,甲基磺酸亚锡60—110g/L,甲基磺酸盐30—70mL/L,消泡剂1—2mL/L,氟硼酸盐30—60mL/L,稀土添加剂0.5—2g/L,明胶1—5g/L,抗氧化剂0.5—2g/L,余量为去离子水。本发明含有甲基磺酸,可以有效维持Sn2+的稳定,添加有甲基磺酸盐,可以使镀锡层结晶细化,扩大光亮电流密度范围,有效改善镀液的导电能力和稳定性;本发明成本低,添加有稀土添加剂,显著提高了镀锡液的分散能力,稀土元素有一定的抑制析氢反应作用,可以提高镀镍液的电流密度。