一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备及制造方法

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本发明公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备及制造方法，该镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱磁控靶源、阳极层线性离子源、加热装置、转架和网状料筐；转架设计在真空镀膜室内，通过支撑轴固定在框架上，框架固定在在卧式真空壳体上，转架的轴线与卧式真空壳体的轴线平行，网状料筐两端有转轴安装在转架上，转轴的轴线与转架的轴线平行，转架围绕真空壳体的轴线做太阳公转，网状料筐做行星转动即随转架一起公转加自转。真空镀膜室转架内安装有一个以上的圆柱磁控靶，所述的圆柱磁控靶分别安装在转架的内部和外部；采用本发明的磁控溅射镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。