一种镀膜设备及镀膜方法

文件类型：PDF文档
文件大小：407K
本发明公开一种镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括镀膜室，镀膜室的顶部安装有靶材，其特征在于，靶材包括第一靶材和第二靶材；第一靶材为Nd靶材，或者为Pr靶材，或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材；第二靶材为Tb靶材；第一靶材位于第二靶材的前方。本发明的镀膜设备及镀膜方法，提高了重稀土金属的使用效率。