用于制作磁瓦的溅射靶材

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本发明涉及制作磁瓦的辅助材料，具体为一种用于制作磁瓦的溅射靶材，解决了目前制作磁瓦时缺乏有效的辅助材料的问题。一种用于制作磁瓦的溅射靶材，是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金，所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合，占溅射靶材总重量的范围是：大于等于80%且小于100%；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合。所述溅射靶材呈颗粒状合金。本发明设计合理，能够更好地制备出磁力线辐射发散的磁瓦。