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本发明提供即使被暴露於450~600℃程度的高温下,也不会发生小丘(hillock)高温耐热性优异,配线构造全体的电阻(配线电阻)也可以抑制得很低,进而耐氟酸性也优异的显示装置用配线构造。本发明之显示装置用配线构造,由基板侧依序含有:包含由Ta、Nb、Re、Zr、W、Mo、V、Hf、Ti、Cr及Pt构成的群(X群)所选择的至少一种元素,与稀土类元素之至少一种的Al合金之第1层,与Ti、Mo、Al、Ta、Nb、Re、Zr、W、V、Hf、及Cr构成的群(Y群)所选择的至少一种元素的氮化物,或Al合金的氮化物之第2层被层积之构造。