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本发明提供一种提高化学溶液法制备CeO2薄膜临界厚度的方法,依次由以下步骤构成:a、硝酸盐的制备:按稀土与铈的离子比x:1-x,0.01≤x≤0.5配制稀土硝酸盐与硝酸亚铈混合物;b、胶体制备:将配制的稀土硝酸盐与硝酸亚铈溶解在高分子有机溶剂中;c、胶体涂敷与干燥:将b步的胶体涂覆在织构基底上,后干燥;d、分解成相:将干燥样品放入通H2/Ar还原气氛的烧结炉中, 经过350oC-550oC分解,后升温至1000oC-1200oC成相,随炉冷却。本发明所述的提高化学溶液法制备CeO2薄膜临界厚度的方法其制作工艺简单、操作控制容易、成本低、不污染环境、制备的稀土掺杂的氧化铈单层缓冲层的临界厚度达到150-200nm。