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用于刻蚀微波介质薄膜的刻蚀液及制备方法,涉及微电子技术领域。本发明的刻蚀液以质量比计算,其组分为:HBF4∶HNO3∶H2O=1∶x∶5,其中0.5≤x≤3;其中,HBF4的浓度为3.2%~9.6%,HNO3的浓度为65%~68%。本发明的有益效果是,采用本发明刻蚀的含稀土氧化物微波介质薄膜,边缘清晰,侧蚀比小。
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