藉由物理气相沉积钛和氧化钛和次氧化物所形成的能量转换和储存的薄膜和装置

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高密度氧化物薄膜系藉由脉冲DC偏压反应性溅镀法，自含钛溅靶沈积，以形成高品质含钛之氧化物薄膜。根据本发明形成钛为底质层或薄膜之方法包括藉由脉冲DC偏压反应性溅镀法在一基板上沈积含钛之氧化物层。某些实例中，该层系TiO2。在某些实例中，该层系钛之次氧化物。某些实例中，该层系TixOy，其中x介於约1与约4之间，y介於约1与约7之间。某些实例中，该层可掺杂一或多种稀土离子。此等层於能量与电荷储存以及能量转换技术。