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用於制程环上之基於稀土金属氧化物的薄膜涂层之离子辅助沉积

2025-06-19 11:112320下载
文件类型：PDF文档
文件大小：4997K
一种制造物品的方法包括为蚀刻反应器提供一环随後进行离子辅助沉积(IAD)以在该环的至少一个表面上沉积保护层，其中该保护层为抗电浆稀土金属氧化物膜，该膜具有小於300微米的厚度及小於6微英寸的平均表面粗糙度


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