用于涂层的化合物、含铝钽酸铪、及含铝和铒的钽酸铪

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本公开内容提供了一种化合物，其可特别用于在涂层体系中形成层。在一个实施例中，该化合物可具有下式：AxBbLn1‑x‑bHf1‑t‑dTitDdMO6，其中：A是Al、Ga、In、Sc、Y、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Fe、Cr、Co、Mn、Bi或其混合物；x是约0.01至约0.99；b是0至约0.5，其中1‑x‑b是0至约0.99，使得Ln存在于化合物中；Ln是不同于A的稀土元素或其混合物；t是0至约0.99；D是Zr、Ce、Ge、Si或其混合物；d是0至约0.5；t和d之和小于1，使得Hf存在于化合物中；并且M是Ta、Nb或其混合物。另外还提供了一种含铝钽酸铪和一种含铝和铒的钽酸铪。