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氮化硅烧结基板的制造方法

2025-06-17 20:102180下载
文件类型:PDF文档
文件大小:2393K
本发明提供一种氮化硅烧结基板的制造方法,包括:混合80质量%以上98.3质量%以下的Si3N4粉末、以氧化物换算计为0.7质量%以上10质量%以下的Mg化合物粉末和以氧化物换算计为1质量%以上10质量%以下的至少1种稀土元素的化合物粉末得到混合粉末的工序a;将混合粉末制成浆料并成型为多个生片的工序b;将多个生片隔着氮化硼粉末层叠层得到叠层组装体的工序c;和,将叠层组装体配置于烧结炉内并对叠层组装体进行烧结的工序d;在工序c中氮化硼粉末层的厚度为3μm以上20μm以下;工序d包括:在80Pa以下的真空气氛下保持900℃以上1300℃以下的气氛温度,从生片中除去碳的工序d1,和在工序d1之后在氮气氛下以1600℃以上2000℃以下的气氛温度使生片烧结的工序d2。


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