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稀土盐/氧化剂为基础的化学－机械抛光方法

2026-04-05 00:042700下载
文件类型：PDF文档
文件大小：754K
本发明提供一种使用化学-机械抛光系统抛光具有金属层的基片的方法。化学-机械抛光系统包含研磨剂及/或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。


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