高分子辅助硝酸盐沉积制备高温超导涂层导体缓冲层的方法

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一种高分子辅助硝酸盐沉积制备高温超导涂层导体缓冲层的方法，其作法是：a.无水溶液制备：按稀土或锆与铈的离子比x∶1－x 0.01≤x≤0.5称量稀土硝酸盐或硝酸锆与硝酸亚铈按，并溶解在N，N－二甲基甲酰胺中，形成无水溶液。b.胶体制备：在a步的无水溶液中加入聚丙烯酸或聚甲基丙烯酸。c.胶体涂敷与干燥：将b步制得的胶体涂覆在基片上并干燥。d.烧结成相：将干燥后的基片放入烧结炉中，将炉温以5－100℃/min的速度升至850℃－1150℃，保温0.25－2小时，随后将炉温缓慢降至室温。该法制作工艺简单，操作控制容易，成本低，不污染环境；制得的氧化铈单层缓冲层的厚度可达到150－200nm。