一种稀土抛光粉及其制备方法

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本发明的公开了一种稀土抛光粉及其制备方法，所述稀土抛光粉包括如下组分及其质量百分比：CeO2含量60〜80%，La2O3含量30〜40%，Pr6O11含量0.1〜5%，F含量4〜6%，P2O5含量1〜3%；上述稀土抛光粉的制备方法，包括，改性碳酸稀土前驱体的合成、改性碳酸稀土前驱体洗涤、改性碳酸稀土前驱体的脱水、焙烧、粉碎等步骤。本发明制备的稀土抛光粉具有耐磨性好，抛光速率快，拋光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高、成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面拋光加工。