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本发明系提供一种曝露於卤素系气体气氛、或卤素系气体电浆气氛之耐腐蚀性构件, 於基材表面被覆复数之材料所成, 其被覆层之最表面为稀土类元素之氟化物, 其下面具有未达5%气孔率之稀土类元素之氧化物层为其特徵之耐腐蚀性构件。本发明之耐腐蚀性构件可提昇对於卤素系腐蚀性气体、或其电浆之耐腐蚀性, 可抑制其用於半导体制造装置、平面显示器制造装置时因电浆蚀刻所产生之微粒污染。另外, 因可抑制经由洗净所造成构件之损伤, 故可实现构件之高寿命。因此, 可长期且高效率生产高品质制品。