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一种等离子腐蚀反应器(20)包括反应室(22),反应室具有接地上电极(24)、固定到高频电源(30)和低频电源(32)的下电极(28)、位于上下电极之间且可以具有浮置电位的外围电极(26)。稀土磁体(46,47)用于建立磁场,用于限制反应室(22)内产生的等离子体。等离子腐蚀反应器(20)能够腐蚀用于高密度半导体器件的新出现的膜。
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