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一种半导体装置,其特徵为具备:; 基板;及; 缓冲层,其系由形成於前述基板上之单结晶半导体所构成;及; 应变 Si 层,其系形成於前述缓冲层上,与前述缓冲层之格子常数不同;及; 单结晶的绝缘膜,其系形成於前述应变 Si 层,前述单结晶的绝缘膜系由与 Si 之格子常数不同的稀土族构造之材料所构成;及; 电极,其系形成於前述绝缘膜上。
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