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提供一种系微影制程用曝光装置等的步进装置透镜材料之氟化钙和氟化钡等的高纯度氟化物(高纯度氟化物并不限於氟化钙与氟化钡);并且使用於光纤和涂布材料等的氟化镱和氟化铈等的稀土类氟化物,而降低包含於此高纯度氟化物与稀土类氟化物的氧.碳成分之方法。; 其特徵在於:藉由实施氟气处理以降低高纯度氟化物中所包含的氧.碳成分。
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