| 申请日期 | 2025-11-25 | 申请号 | CN201480040772.6 |
| 公开（公告）号 | CN105378900B | 公开（公告）日 | 2018-10-09 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 应用材料公司 | ||
| 简介 | 一种制造制品的方法包括提供用于蚀刻反应器的环。随后，执行离子辅助沉积(IAD)以在环的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是抗等离子体的稀土氧化物膜，所述抗等离子体的稀土氧化物膜具有小于300微米的厚度以及小于6微英寸的平均表面粗糙度。 | ||
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