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一种高发射率高熵陶瓷材料及其制备方法和应用 发明授权

2023-01-15 5080 768K 0

专利信息

申请日期 2025-08-18 申请号 CN202110515323.4
公开(公告)号 CN113233876B 公开(公告)日 2022-04-08
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京理工大学
简介 本发明提供了一种高发射率高熵陶瓷材料及其制备方法和应用,属于高熵陶瓷材料技术领域。本发明在La的晶格位置同时引入五种不同掺杂比例的稀土元素,增加了LaMgAl11O19价带顶与导带底之间的杂质能级数量,减小了禁带宽度,有利于杂质能级中的电子吸收红外光的能量向导带跃迁,进而提升相应波段的光谱发射率;本发明在LaMgAl11O19陶瓷材料中引入可以变价的Pr、Ce或Eu元素,当其价态发生变化时能增加体系中自由电子浓度(例如Pr3+向Pr4+变价),从而促进自由载流子对红外光的吸收,也有利于光谱发射率的提高。本发明提供的陶瓷材料在3μm~5μm红外波段的光谱发射率>0.85,具有很好的应用前景。


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