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稀土Er掺杂改性的GeSb纳米薄膜及其制备方法 发明授权

2023-11-23 3250 717K 0

专利信息

申请日期 2025-06-29 申请号 CN201610620373.8
公开(公告)号 CN106206942B 公开(公告)日 2018-09-18
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 江苏理工学院
简介 本发明提供了一种稀土Er掺杂改性的GeSb纳米薄膜及其制备方法,所述稀土Er掺杂改性的GeSb纳米薄膜的组分表达式为Erx(GeiSbj)y,x、y都为原子百分比,其中0<x≤0.10,0.90<y≤1,x+y=1.00,i=10,j=90。本发明具有相变速度快、热稳定性好、数据保持力好、低功耗的特点,可以应用于相变存储器和相变显示器等。


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