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一种防蓝光基片材料配方 发明申请

2023-12-04 3420 221K 0

专利信息

申请日期 2025-07-27 申请号 CN201810174941.5
公开(公告)号 CN108410156A 公开(公告)日 2018-08-17
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 江苏优立光学眼镜有限公司
简介 本发明公开了一种防蓝光基片材料配方。其原料按重量份数配比如下:MR8 60‑70份,催化剂10‑15份,UV‑A粉10‑15份,UV‑B粉为5‑10份,离型剂1‑3份,N‑乙烯基吡咯烷酮10‑15份,聚二甲基硅氧烷3‑5份,纳米稀土氧化物20‑25份。采用上述的配方后,直接将纳米稀土氧化物经过改性处理作为防蓝光添加剂添加到基片材料中以及合理添加了紫外线吸收剂以及能够进行配伍的N‑乙烯基吡咯烷酮和聚二甲基硅氧烷使其聚合效果好,另外搭配其它的辅助配方使最终产品不但具有非常好的防蓝光效果,与此同时透光度好且还具有防紫外线辐射的效果,特别是在基片中加入各种成份配方不会造成脱落问题的发生,其意义十分重大。


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