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一种R-T-B类钕铁硼磁体及其制备方法和应用 发明申请

2023-09-19 4340 543K 0

专利信息

申请日期 2025-07-12 申请号 CN202111537578.7
公开(公告)号 CN114284017A 公开(公告)日 2022-04-05
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 烟台正海磁性材料股份有限公司
简介 本发明公开了一种R‑T‑B类钕铁硼磁体及其制备方法,所述磁体按质量比为100%计,所述磁体包含如下成分:27.0~35.0wt%的R,R为包括Nd的至少一种稀土元素;0.80~0.93wt%的B;0.1~0.50wt%的Cu;0.2‑0.5wt%的Ga;0~0.5wt%的M,M为Zr、Ti中的至少一种,且Cu、Ga和M的含量之和大于0.9倍的B的含量;0.1~1.5wt%的Al;余量为Fe、Co以及不可避免的杂质、且Fe占Fe、Co和杂质总含量的95wt%以上。本申请通过调整R,Cu,Ga,M元素的比例,且Cu、Ga和M的含量之和大于0.9倍的B的含量,在合金铸片制成粉末之前,对合金铸片进行750±50℃的保温处理,可在保证90vol%的主相前提下,能够在磁体晶界处形成体积分数40vol%以上的R‑Ga‑Cu‑M相,同时在一定程度上减少R‑T‑Ga相的存在,避免因R‑T‑Ga相较多,使磁体的Hcj降低。


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