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一种钕铁硼电镀Dy薄膜工艺 发明授权

2023-03-06 4570 276K 0

专利信息

申请日期 2025-07-20 申请号 CN201610781020.6
公开(公告)号 CN106169346B 公开(公告)日 2018-08-03
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 浙江凯文磁业有限公司
简介 一种钕铁硼电镀Dy薄膜工艺,属于金属材料的镀覆技术领域,包括以下步骤:将选出的粗粉使用硝酸进行酸洗,再进行超声波震荡去灰等前处理;采用氯化镝酸性镀镝工艺,对粗粉进行镀镝处理,获得表面镀有0.05‑0.1um的薄镝层,并对电镀后的粗粉进行脱水干燥处理;制得主相晶粒3.2‑3.6um,晶界相连续光滑分布的烧结磁体。本工艺采用电镀工艺将Dy元素镀在烧结钕铁硼主相晶粒表面,而非熔炼时添加重稀土Dy和Tb,避免了Dy和Tb进入主相造成Br的降低。


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