| 申请日期 | 2025-07-08 | 申请号 | CN201810179586.0 |
| 公开（公告）号 | CN108320876A | 公开（公告）日 | 2018-07-24 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 北京科技大学 | ||
| 简介 | 一种热等静压低温烧结获得高磁性烧结钕铁硼的方法，属于稀土磁性材料技术领域。本发明将烧结钕铁硼磁粉进行半致密化烧结，再将低熔点扩散合金源覆盖在半致密化烧结钕铁硼周围，并放置在玻璃管中，进行真空玻璃封管，再进行热等静压低温烧结、回火，制备得到高密度高磁性的烧结钕铁硼磁体。在热等静压低温烧结过程中，玻璃管呈熔融态在试样表面形成一层玻璃包套，通过作用在玻璃包套各个方面的气压，使半致密的钕铁硼磁体的烧结密度达7.5g/cm3以上；同时，在气压作用下加速扩散元素沿晶界扩散，提高扩散层的深度，样品的厚度达1.5cm以上。热等静压低温烧结的钕铁硼磁体具有扩散深度大、晶界相分布均匀、边界清晰、晶粒细小、高密度、高矫顽力等优点。 | ||
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