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集成外延金属电极 发明申请

2023-06-20 2230 5728K 0

专利信息

申请日期 2025-07-07 申请号 TW106132460
公开(公告)号 TW201826327A 公开(公告)日 2018-07-16
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 英商IQE有限公司
简介 本文描述了在稀土氧化物与半导体层之间增加外延金属层的系统和方法描述系统和方法以分层结构生长,其包基底、在基底上外延生长的第一稀土氧化物层、在稀土氧化物层上外延生长的第一金属层,以及在第一金属层上外延生长的第一半导体层


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