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一种双模板导向离子印迹介孔双层膜的制备方法及其应用 发明申请

2023-11-23 3060 810K 0

专利信息

申请日期 2025-06-30 申请号 CN201810088718.9
公开(公告)号 CN108246270A 公开(公告)日 2018-07-06
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 常州大学
简介 本发明涉及印迹介孔膜的制备,尤其涉及一种双模板导向离子印迹介孔双层膜制备方法及实现从NdFeB磁体中同时选择性吸附分离稀土钕和镝元素的应用,属材料制备技术和分离技术领域。目前,永磁体NdFeB中回收稀土元素过于单一,无法同时回收多种稀土元素,本发明基于双模板导向离子印迹技术,以CNCs为结构导向模板,金属离子为印迹模板,制备出双模板导向离子印迹介孔双层膜(IIBFs),蒸发诱导自组装(EISA),保证底膜在顶膜制备过程的完整和稳定性,原子转移自由基聚合法(ATRP)嫁接温敏单体到IIBFs顶层的表面,实现钕和镝元素的分离吸附。该材料具有高吸附容量和高选择性双吸附的优点,快速键合和良好的重复性保证了工业应用上的巨大潜力。


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