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一种超声/磁共振双模式造影剂及其制备方法与应用 发明授权

2023-12-17 3690 984K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201510823382.2
公开(公告)号 CN105288667B 公开(公告)日 2018-03-16
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 上海师范大学
简介 本发明涉及一种超声/磁共振双模式造影剂及其制备方法与应用,造影剂为表面采用聚乙烯吡咯烷酮修饰的配位聚合物纳米粒子造影剂,该配位聚合物纳米粒子造影剂内部具有空腔结构,并且所述的配位聚合物纳米粒子造影剂中还掺杂有稀土元素Ir及Ho;制备时,配制2‑苯基喹啉3, 3’‑联吡啶二羧酸铱配合物的DMSO溶液,加入聚乙烯吡咯烷酮,搅拌混合均匀,并升温至30‑200℃,恒温0.1‑2h,再加入醋酸钬的DMSO溶液,反应0.1‑48h,反应结束后,用去离子水透析10‑12h,离心,即可;制得的双模式造影剂用于超声造影成像及磁共振造影成像。与现有技术相比,本发明双模式造影剂形貌均一,分散性好,稳定性优良,合成工艺简单,原料易得,对环境无污染,具有很好的应用前景。


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