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光波导放大器及其制作方法 发明申请

2023-10-11 1740 973K 0

专利信息

申请日期 2026-03-15 申请号 CN202111520608.3
公开(公告)号 CN114221204A 公开(公告)日 2022-03-22
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 武汉光谷信息光电子创新中心有限公司; 武汉邮电科学研究院有限公司
简介 本公开实施例公开了一种光波导放大器及其制作方法,所述光波导放大器包括:衬底;位于所述衬底上、且沿平行于所述衬底的第一方向并列排布的至少两个光波导;其中,相邻的两个所述光波导之间具有间隙;位于所述间隙内的、掺杂稀土元素的掺杂介质层;其中,在垂直于所述衬底的第二方向上,所述掺杂介质层的高度大于或者等于所述光波导的高度;所述掺杂介质层的折射率小于所述光波导的折射率;石墨烯层,覆盖并接触所述掺杂介质层;第一电极,与所述石墨烯层电连接;第二电极,与所述衬底接触。


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