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ATOMIC LAYER DEPOSITION COATINGS FOR HIGH TEMPERATURE CERAMIC COMPONENTS 发明申请

2023-12-07 3030 2260K 0

专利信息

申请日期 2025-08-14 申请号 US17532693
公开(公告)号 US20220081762A1 公开(公告)日 2022-03-17
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Applied Materials Inc
简介 Certain embodiments of the present disclosure relate to methods of forming coated articles. In one embodiment, a method comprises depositing one or more rare earth metal-containing ceramic compounds on an article by atomic layer deposition, for example, to coat surfaces of high aspect ratio internal channels.


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