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钨阴极激光多层熔覆修复方法 发明授权

2023-12-14 1800 306K 0

专利信息

申请日期 2025-07-01 申请号 CN201510986950.0
公开(公告)号 CN105986266B 公开(公告)日 2018-06-01
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 包头市三隆稀有金属材料有限责任公司
简介 本发明属于激光熔覆技术领域,具体涉及稀土熔盐电解用钨电极激光多层修复工艺,本发明属于激光熔覆技术领域,具体涉及一种钨阴极激光多层修复方法。特点是:在室温下清理、打磨钨电极“缩颈”部位,将氧化层及腐蚀层去除干净;然后使用4kW CO2激光器、数控工作台,利用HUST‑IV型高精度送粉器、同轴送粉喷嘴把碳化硅SiC、钯Pd、纯钨W三种混合粉末,在氩气气氛保护下,逐行逐线熔覆在工件表面上;采用单道多层沉积方式进行激光熔覆,获得厚达6.0~10mm多层涂层;最后用探伤检测,确保熔覆层无裂纹、气孔、夹杂缺陷。该种修复具有结合性强,操作简单,抗高温氧化性及耐熔盐腐蚀性好优点。


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