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一种双模板导向印迹复合膜的制备方法及其应用 发明申请

2023-05-22 3470 494K 0

专利信息

申请日期 2025-07-07 申请号 CN201810038581.6
公开(公告)号 CN108043371A 公开(公告)日 2018-05-18
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 常州大学
简介 本发明为一种对钕元素具有选择性吸附的双模板导向离子印迹氧化石墨烯复合膜(IGOMs)的制备方法及其吸附回收稀土元素钕的应用,属材料制备技术和分离技术领域。本发明以纤维素纳米晶体(CNC)为结构导向模板,Nd3+离子为印迹模板,形成双模版导向复合物,加入氧化石墨烯溶液,制备出特异性吸附钕的IGOMs材料,通过静态吸附实验研究了此材料的吸附性能。结果表明利用本发明获得的改性IGOMs对稀土元素钕具有优越的吸附性能。同时,石墨烯的掺杂可以有效的提高其柔韧性和稳定性,使其在工业应用上成为可能。


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