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Thin film transistor and method of manufacturing 发明授权

2023-10-16 1760 301K 0

专利信息

申请日期 2026-03-26 申请号 JP2013260343
公开(公告)号 JP6264015B2 公开(公告)日 2018-01-24
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 凸版印刷株式会社
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To easily optimize a threshold voltage in a thin-film transistor having an IGZO film.SOLUTION : In a bottom-gate thin-film transistor having a substrate 1, a gate electrode 2, a gate insulating layer 4, an In-Ga-Zn-O-based semiconductor layer 5 constituting a channel layer, and a protective film 6 coating the semiconductor layer 5, an insulating layer containing a rare-earth hydride 7 having insulation properties is provided on the protective film 6.


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