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一种稀土掺杂锗酸铋单晶光纤及包层方法 发明授权

2023-02-20 3710 340K 0

专利信息

申请日期 2025-07-02 申请号 CN202011145391.8
公开(公告)号 CN112723751B 公开(公告)日 2022-03-11
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 南京同溧晶体材料研究院有限公司
简介 本发明提供了稀土掺杂锗酸铋单晶光纤,包括外部包层和内部纤芯两部分,所述纤芯是由掺杂有一定浓度稀土离子的Bi4Ge3O12单晶结构,所述包层为Bi4Ge3O12结构,所述纤芯制备采用的原材料为稀土离子氧化物、Bi2O3、GeO2,其中Bi2O3、GeO2的摩尔比为1~2:3~4。本发明中设置有两层结构,包括外部包层和内部纤芯两部分,外部包层选用Bi4Ge3O12制备的玻璃结构,内部纤芯为掺杂有稀土离子的Bi4Ge3O12单晶结构,同时,还提供了上述光纤的制备方法,与现有技术相比,制备的光纤输出的激光更为高效、功率更高。


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