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ION BEAM SPUTTERING WITH ION ASSISTED DEPOSITION FOR COATINGS ON CHAMBER COMPONENTS 发明申请

2023-10-22 3060 470K 0

专利信息

申请日期 2025-07-04 申请号 US15712094
公开(公告)号 US20180010235A1 公开(公告)日 2018-01-11
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Applied Materials Inc
简介 An article comprises a body and a conformal protective layer on at least one surface of the body. The conformal protective layer is a plasma resistant rare earth oxide film having a thickness of less than 1000 μm, wherein the plasma resistant rare earth oxide film is selected from a group consisting of an Er—Y composition, an Er—Al—Y composition, an Er—Y—Zr composition, and an Er—Al composition.


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