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高性能Sm‑Co纳米永磁薄膜及其制备方法 发明申请

2023-02-21 4710 512K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201710771742.8
公开(公告)号 CN107564660A 公开(公告)日 2018-01-09
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 任瀚洋
简介 本发明涉及稀土永磁技术领域,公开了一种高性能Sm‑Co纳米永磁薄膜。该SmCo纳米永磁薄膜的结构从上至下依次包括:MgO基片、Cr缓冲层、Sm‑Co层以及Cr覆盖层,其中Cr缓冲层、Sm‑Co层以及Cr覆盖层的尺寸均为纳米等级。还公开了其制备方法,包括(1)Sm‑Co合金的制备;(2)靶材制备;(3)先在MgO基片上沉积Cr缓冲层,再溅射沉积Sm‑Co层,最后沉积Cr覆盖层。本发明提供一种制备高纯度无氧化,抗氧化性优异,易于调控的薄膜及其制备方法,解决了尺寸精度要求高、温度要求高的问题,更加符合电子工业生产所需要求。


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