| 申请日期 | 2025-07-08 | 申请号 | TW105117645 |
| 公开（公告）号 | TW201742891A | 公开（公告）日 | 2017-12-16 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 杜 秀艳 | ||
| 简介 | 本发明涉及一种改性的高阻隔薄膜，所述薄膜包括表层a、芯层、表层b，其特徵在於：表层a中MXD6的含量为30~40%，PA6的含量为63~85%，防粘母料的含量为2~4%，相容剂的含量为3~8%，奈米稀土成核剂的含量为5.5~8%；芯层中MXD6的含量为95~99.9%，奈米稀土成核剂的含量为0.1~5%；在表层b中MXD6的含量为10~30%，PA6的含量为63~85%，防粘母料的含量为2~4%，相容剂的含量为8.5-12%，奈米稀土成核剂的含量为2~4.5%本发明所提供的改性的高阻隔薄膜提高了断裂伸长率，降低了雾度 | ||
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