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Ion beam sputtering with ion assisted deposition for coatings on chamber components 发明授权

2023-03-31 1490 1506K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 US15211993
公开(公告)号 US9797037B2 公开(公告)日 2017-10-24
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Applied Materials Inc
简介 An article comprises a body and a conformal protective layer on at least one surface of the body. The conformal protective layer is a plasma resistant rare earth oxide film having a thickness of less than 1000 μm, wherein the plasma resistant rare earth oxide has a composition of 40-45 mol % of Y2O3, 5-10 mol % of ZrO2, 35-40 mol % of Er2O3, 5-10 mol % of Gd2O3, and 5-15 mol % of SiO2.


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