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TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION, ELECTRON BEAM-EXCITED ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE, AND PRODU 发明授权

2023-08-01 4730 1976K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 EP13849168
公开(公告)号 EP2913378B1 公开(公告)日 2017-10-11
公开国别 EP 申请人省市代码 全国
申请人 Hamamatsu Photonics K K
简介 A target for ultraviolet light generation comprises a substrate adapted to transmit ultraviolet light therethrough and a light-emitting layer disposed on the substrate and generating ultraviolet light in response to an electron beam. The light-emitting layer includes a polycrystalline film constituted by an oxide polycrystal containing Lu and Si doped with an activator or a polycrystalline film constituted by a rare-earth-containing aluminum garnet polycrystal doped with an activator.


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