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A thin film transistor, a thin film transistor and method of manufacturing 发明授权

2023-11-20 3690 619K 0

专利信息

申请日期 2026-04-24 申请号 JP2013198154
公开(公告)号 JP6209918B2 公开(公告)日 2017-10-11
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 凸版印刷株式会社
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To allow easy adjustment of a threshold voltage in a thin film transistor having an IGZO film.SOLUTION : A thin film transistor which has a substrate 1, a gate electrode 2, a gate insulation layer 4, an In-Ga-Zn-O semiconductor layer 5 composing a channel layer and a protection layer 7 for covering the semiconductor layer 5 comprises : an insulation layer 6 which is provided between the semiconductor layer 5 and the protection layer 7 and contains a rare-earth metal hydride.


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