| 申请日期 | 2025-06-24 | 申请号 | CN202080049429.3 |
| 公开（公告）号 | CN114127328A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社古屋金属 | ||
| 简介 | 本发明的目的在于提供一种溅镀靶材，在溅镀靶材中作为杂质的氯元素的混入得到抑制，且使用该溅镀靶材形成薄膜时能够抑制因氯所导致的异常放电的发生，而形成配向性良好的薄膜。本发明的溅镀靶材的特征在于：包含铝且还包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种，且氯的含量为100ppm以下。 | ||
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