| 申请日期 | 2025-06-27 | 申请号 | CN202080050071.6 |
| 公开（公告）号 | CN114127329A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社古屋金属 | ||
| 简介 | 本发明的目的在于提供一种导电性得到提高，例如在使用DC溅镀装置成膜时使生产性提高的溅镀靶材。本发明的溅镀靶材的特征在于：在铝母相中以10～70mol％的含量存在以下材料或相，即，(1)包含铝且还包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种的材料或相、或者(2)包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种的材料或相。 | ||
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