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Ruthenium complex and its manufacturing method, a ruthenium-containing thin film and method of manu 发明授权

2023-04-17 4720 1019K 0

专利信息

申请日期 2025-09-15 申请号 JP2013133480
公开(公告)号 JP6178638B2 公开(公告)日 2017-08-09
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 東ソー株式会社; 公益財団法人相模中央化学研究所
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To provide a ruthenium complex useful for making a ruthenium-containing thin film, and a method of producing the ruthenium complex.SOLUTION : This invention provides a ruthenium complex represented by formula (1), where R, R, R, R, R, R, Rand Rindependently represent a hydrogen atom or 1-6C alkyl group; and Rrepresents 1-6C alkyl group, excluding the cases where all of R, Rand Rare simultaneously a hydrogen atom and all of R, R, R, R, Rand Rare simultaneously a methyl group.


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