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一种铒掺杂的硫化钼薄膜及其制备方法 发明申请

2023-11-27 4090 503K 0

专利信息

申请日期 2025-06-26 申请号 CN201710171406.X
公开(公告)号 CN106981560A 公开(公告)日 2017-07-25
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 苏州科技大学
简介 本发明公开了一种铒掺杂的硫化钼薄膜及其制备方法。在清洗后的n‑Si (111)片衬底上,采用化学气相沉积方法,以Er(NO3)3作为Er掺杂剂对MoS2进行掺杂,按质量比,MoS2:Er(NO3)3为 5 : 1~1 : 1,得到一种铒掺杂的硫化钼薄膜。稀土元素具有良好的发光特性,本发明提供的铒掺杂的硫化钼薄膜,以稀土元素铒作为激活中心,掺杂多层硫化钼薄膜,在MoS2薄膜中作为激活元素起到发光中心的作用,激活硫化钼薄膜的发光,提高MoS2薄膜的光吸收和辐射发光的几率,有效提高了硫化钼薄膜发光强度。


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