| 申请日期 | 2025-07-11 | 申请号 | CN202010777454.5 |
| 公开（公告）号 | CN114068276A | 公开（公告）日 | 2022-02-18 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种半导体零部件，包括零部件本体，零部件本体表面具有耐等离子体涂层，耐等离子体涂层包括至少两种稀土金属元素的氧化物、氧氟化物或氟化物中的一种或多种，其中一种稀土元素为铈元素，铈元素使氧空位的活性较高，活性较高的氧空位能够分解等离子体环境中的碳氟聚合物。由于铈元素具有化学价态可调的性质，并且在等离子体反应装置中的工作环境下，具有易释放晶格氧和恢复晶格氧的特点，因此在刻蚀过程中能够将碳氟聚合物分解为气体，将等离子体作用下生成的氟化物还原为氧化物，进而防止碳氟聚合物和氟化物以颗粒的形式脱落，避免反应腔内环境污染。 | ||
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