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一种晶界扩散Al‑Cu合金提高钕铁硼磁体耐蚀性的方法 发明申请

2023-12-04 3440 424K 0

专利信息

申请日期 2025-07-27 申请号 CN201611101093.2
公开(公告)号 CN106783124A 公开(公告)日 2017-05-31
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 华南理工大学
简介 本发明公开了一种晶界扩散Al‑Cu合金提高钕铁硼磁体耐蚀性的方法,属于稀土磁性材料领域。该方法将低熔点高电位Al‑Cu合金普通铸锭粗破、球磨后直接作为钕铁硼磁体的表面扩散源,经过扩散热处理和退火热处理,在钕铁硼磁体的晶界形成一层富Al‑Cu的薄层,从而获得高耐腐蚀性钕铁硼磁体。本发明以Al‑Cu合金作为扩散源,可以避免直接在铸锭中添加Al、Cu元素,非磁性Al、Cu进入主相产生磁稀释作用,降低磁体的剩磁;还能同时提高磁体的耐腐蚀性能和磁性能,因为晶界扩散能提高晶界相化学稳定性,优化显微结构,改善晶界相的分布,提高磁体密度。


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